Технология дымящегося кремнезема

​Высокая производительность

Технология дымящегося кремнезема

Полностью закрытый производственный процесс;

Автоматическая система управления горением;

Одно или несколько соотношений смешивания сырья;

Диверсифицированные бренды продукции и высокая однолинейная производственная мощность; Лаборатория прикладных исследований и разработок.

Технология этого проекта оптимизирована и обновлена на основе опыта зарубежных передовых технологий, поэтому инвестиции в устройство ниже.

По сравнению с отечественной технологией открытого процесса преимущества огромны, и она может полностью достичь технического уровня предприятий, финансируемых из-за рубежа:

A、Высокая годовая производственная мощность одной линии: ;;::5000 тонн.

(тетрахлорид кремния в качестве сырья);

B、Разнообразие реакционного сырья, STC, TCS, MTS можно смешивать в любой пропорции для получения коллоидного кремнезема;

C、Закрытый процесс производства: от сырья до продукции полностью закрытая система, в продукте очень мало примесей;

D、Автоматическое управление производственным оборудованием, безопасное и удобное.­надежная операция;

E、Затраты на эксплуатацию и техническое обслуживание низкие, а обслуживание­финансы планируются один раз в год;

F、Бренд продукта является полным, от недорогих продуктов до высококачественных продуктов для удовлетворения потребностей различных областей,

G、Охрана окружающей среды и безопасность: безвредное обращение с тремя отходами, чистая и безопасная рабочая среда.

Сырье и уравнение реакции

Основным сырьем для производства коллоидного кремнезема являются хлорсиланы, водород и воздух. К основным типам хлорсиланов, используемых в этом процессе, относятся тетрахлорид кремния (SiCl₄), трихлорсилан (SiHCl₃), метилтрихлорсилан (CH₃SiCl₃) и дихлорметилсилан (CH₃HSiCl₂).

Тетрахлорид кремния (SiCl₄) : SiCl4​+2Ч2​+O2​→SiO2​+4HCl

Трихлорсилан (SiHCl₃) : SiHCl3​+1,5H2​+O2​→SiO2​+3HCl

Метилтрихлорсилан (CH₃SiCl₃) : CH3​SiCl3​+2Ч2​+3O2​→SiO2​+3HCl+2H2​О+СО2​

Дихлорметилсилан (CH₃HSiCl₂) : CH3​HSiCl2​+H2​+3O2​→SiO2​+2HCl+2H2​О+СО2

Краткое описание процесса реакции:

Во всех случаях хлорсилан (SiCl₄, SiHCl₃, Ч.₃SiCl₃, или CH₃HSiCl₂) подвергается гидролизу в присутствии водорода и кислорода при высоких температурах (1500°С до 2000 г.°С). В результате реакций образуются мелкие частицы кремнезема (SiO₂), хлористый водород (HCl) и другие побочные продукты, такие как вода (H₂O) и диоксид углерода (CO₂) в зависимости от типа используемого хлорсилана. Эти реакции протекают в огне. Во всех случаях хлорсилан (SiCl₄, SiHCl₃, Ч.₃SiCl₃, или CH₃HSiCl₂) подвергается гидролизу в присутствии водорода и кислорода при высоких температурах (от 1500°С до 2000°С). В результате реакций образуются мелкие частицы кремнезема (SiO₂), хлористый водород (HCl) и другие побочные продукты, что приводит к образованию коллоидного кремнезема, который затем собирается и перерабатывается для использования в различных промышленных целях.